第一百六十一章 SOC上帝芯片问世！
第一百六十一章 SOC上帝芯片问世！ (第2/2页)当看见那抹熟悉的黄毛身影，冯承铭顿时堆满笑容道：“林首席你果然也在。”
“我就知道你会来。”
林天淡淡道。
他当初只交了两块光掩膜版怎么生产芯片，可没有交四块光掩膜版怎么去生产芯片。
两块和四块，这里面的门门道道如果没专人领路，一般人还真不一定琢磨得出来。
高永明派冯承铭过来，除了保证光掩膜版安全外，其实也想着让他去学学，四块光掩膜版怎么去生产SOC上帝芯片。
要知道龙芯国际芯片工厂，可是有20纳米光刻机的。
两次多重曝光技术10纳米，四次是不是5纳米芯片了？
当然了。
这只是简单猜测。
况且那台20纳米光刻机，荷兰工程师也不会轻易让他们碰，最多就用用28纳米光刻机，前提还得有相应的图纸。
冯承铭淡然一笑道：“可以学习进步的机会，我肯定不会错过，林首席可不要吝啬教学啊。”
“教，国产联盟嘛。”
林天耸了耸肩道。
“哈哈，那就先谢谢了。”冯承铭心情大好。
两人的这番对话，让任国非、段勇平、陈永等企业老总不由得暗自吃惊。
冯承铭是谁？
帝都龙科院的顶级光刻院士！
据说他参与的光刻项目，无不是国家重点项目，是龙国为数不多的几位光刻领域院士。
听着两人的交谈，他们怎么感觉林天的光刻技术，是远远在冯承铭之上的？
难不成……
多重曝光技术……
几人想到了什么，内心掀起惊涛骇浪。
他们的目光不由得看向陈星的侧脸，好像在询问，这种人才总不可能是曲程介绍的了吧？
如果不是曲程介绍，那陈星是怎么把他招到麾下的？
救过他的命？
还是说，陈星真有大背景？
在任国非几人疑惑满天飞时，陈星直接无视了他们目光，而是看向冯承铭道：
“既然四块光掩膜版也到了，那我们就共同见证，这第一块SOC上帝芯片的问世吧。”
话音刚落，冯承铭点了点头，连忙附和道：“那我们进去聊，正好可以让林首席教学教学。”
“那哥几个就进去吧。”
段勇平也招呼道。
陈永强压心中激动，同样招呼道：“没错没错，我们也别在这吹冷风了，进去工厂内部再说。”
现在他的嘴角比AK还难压，他实在太兴奋了。
无意淘来的48纳米DUV光刻机，在这个时候派上用场，还能生产14纳米芯片，今晚最大受益人除了陈星就是他陈永了。
因为见证过28纳米的开天基带芯片生产，现在的48纳米光刻机在他眼里可是香饽饽，为此他这段时间也在想尽办法去淘光刻机，为国产联盟做贡献。
“那就走吧。”
林天率先移开脚步。
这几天为了教蓝绿厂工程师，他可谓是煞费苦心，都把这里当成自己家了。
好在，有一批人悟道了。
……
当陈星冯承铭等人走进工厂，林天轻车熟路地将众人领到了换衣室更换防尘服。
穿戴整齐，确保没有纰漏以后，他们带着清洁过后的皮箱走进了光刻机的洁净室。
“老总们好！”
“林首席好！”
蓝绿厂的光刻工程师们早早等候，他们早就知道，今晚会有大人物到来。
“不用客气了。”陈永摆了摆手，看向林天道：“林首席你看现在该怎么弄？”
林天没有急着回答他，而是看向陈星，征求同意道：“总裁，那我可要开始了？”
四块光掩膜版的多重曝光技术，如果一旦演示完成，很有可能让其他工程师学了去，他才会特意征求同意。
要是陈星摇头示意，他是可以留一手的。
然而陈星觉得没这必要，未来肯定还是要靠龙芯国际、蓝绿厂帮忙量产芯片的，多重曝光技术也算是让他们尝些甜头，巩固彼此之间的利益了。
“开始吧。”
陈星淡淡回应。
随着陈星点头，林天开始了他的光刻独秀。
利索打开冯承铭带来的皮箱，露出里面的四块光掩膜版。
因为考虑到表面有灰尘，生产前的第一步就需要清洗，紧接着才是区分光掩膜版型号。
四块光掩膜版不比两块的，它需要区分好顺序，不能出错，出错就相当于毁坏了一张硅片。
龙芯国际也没马虎，四块掩膜版都按照林天当初的要求，标注上的光刻序号。
当生产设备都调试完成，林天大手一挥道：“准备生产，硅片清洗烘干涂胶。”
不等蓝绿厂的工程师行动，冯承铭亲自拿硅片去清洗，并放入烘干的运送设备。
林天则是安装掩膜版，数次校准以后，他讲解道：“第一块光掩膜版可以随意放，因为它是地基，之后的三块光掩膜版，必须要做到每一步都要在预定精度范围，1纳米误差都不行。”
“明白了。”
“明白了。”
周围工程师纷纷应答。
在众人围观下，林天开始启动光刻机，进行第一次的曝光，在硅片上作画图案。
第一次曝光结束。
取出硅片蚀刻清洗，紧接着是第二次涂抹光刻胶，林天用上了第二台光刻机。
第二次曝光很明显，他比第一次专注了许多。
“第二次光刻不能用任何偏差，曝光的图案应该在第一次图案纳米图案的中间位置。”
“这就好比一条主干道，第一次我们是修了这个主干道，第二次就是在这个主干道的中间画上一条两边对称的线。”
没有技巧，全凭经验。
林天启动光刻机，进行第二次的曝光，让光刻胶疲软，紧接着继续用蚀刻溶剂清洗。
每次曝光、蚀刻都会在半导体硅片留下图案，一连四次的曝光让冯承铭等工程师看得目瞪口呆。
最后一次时，林天继续讲解道：“第四次曝光，不仅要进行光刻，还要进行离子注入，增加电导性，说白了，就是你们之前学的单次芯片生产步骤。”
“但重点是，我第三步是先刻画道路的左边，第四步，则是要刻画道路的右边，这样一来，完整的电路图案就显现了。”
简单讲述后，他不断用设备调整光掩膜版，当达到预定位置时，他再次启动光刻机。
光刻机在接收到启动指令后，立即就对12寸半导体，接近三百个芯片裸片进行曝光。
五分钟后。
半导体硅片被取出。
此刻所有人大气不敢喘，冯承铭接过硅片以后，亲自去切割检测参数性能。
当检测仪器显示，该裸片的纳米等级是14纳米，并且电路图完美运行那刻，他强压心中的激动，郑重宣布道：
“成了！”
“SOC上帝芯片成了！！！”
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咳咳，刚才复制章节错了，现在改回来了，抱歉。
(本章完)